多级萃取膜处理-电积与单级萃取-电积以及离子膜电积工艺的对比分析

更新时间：2023-02-12 03:58:57作者：百科知识库

多级萃取膜-电积工艺	单级萃取-电积工艺	离子膜电积工艺
氨洗水循环回用，减少蚀刻工序氨洗水用量90%以上	不能回用氨洗水	无氨洗水循环使用装置
无氯气产生,氨挥发小，无废水排放	水洗水直排，蚀刻液处理后增量需排放	产生巨毒氯气，氨氮挥发流失大，环境污染严重
高	低	低
将萃取、膜处理、电解工程、有色冶金、水处理技术、环境工程、有机化工、精细化工、自动化控制、化工设备制造等技术进行隐含复合的高增值组合装置。再生液铜离子在1-150克/升无级调整，占地面积在同等处理量情况下比同类设备小150%。	该技术来源于国外的湿法炼铜工艺，后国外公司将湿法炼铜工艺引入蚀刻液提铜处理。将提铜后的萃余液部份回用，生产过程有连续性废水排放。回用液化学组份难以控制，设备占地大，处理量小，蚀刻废液铜离子一次循环在100克/升以上。该工艺由香港代理商引入国内，后多家公司模仿。	该技术来源于离子膜烧碱工艺，离子膜电解槽隔成阴极室和阳极室。蚀刻液进入阳极室；电解溶液加入阴极室，膜具有单项选择性铜离子透过膜，而氯离子不能通过，电沉积在不锈钢板阴极上产生块状电解铜，理论可行实际应用中由于膜单项选择性的相对性，部份氯离子透过膜进入阴极室产生氯气，蚀刻液直接与镣铱析氯阳极接触，温度高，耗电高，氨氯析出量大，生产成本高，严重污染环境，设备占地面积按产能比较占地比其它产品大150%
国际、国内最新最高权威认证，自有知识产权	不清析	无国际认证，国内省级认证，知识产权己过期。
有水洗水循环工序，蚀刻液经过膜处理，无杂质转入，蚀刻液稳定	没有水洗和膜处理工序，杂质和有机物易转入到萃取剂和蚀刻液中	再生液因膜选择透过的相对性，品质不稳定，无法满足电路板厂的品质要求
蚀刻液完全回用，污染物零排放	蚀刻液循环次数有限，存在部分外排	存在部分蚀刻液外排，氨氮挥发大，并且电解过程产生剧毒—氯气
电解液纯度高，阴极铜含量99.97%以上	电解液有少量杂质，阴极铜含量99%	蚀刻液直接电解，阴极铜平均含量70%，成片状，50%粉状
一个月出铜一次，劳动强度小,工作环境好	一个月出铜一次，劳动强度小	每天需要出铜一次，劳动强度大.氯氯挥发大，环境条件差.
稳定性高，高精密板	不稳定	运行不稳定，在低档板厂有案列
低，2000度/吨铜	较低，2800度/吨铜	高5000度/吨铜
处市场主导地位，蚀刻液100%回用	前期有少量安装，再生液不回用，部份己停用。	个别小厂安装因蚀刻液不稳定，氨氯挥发大，产生氯气，已被拆除
国内外领先	技术落后	不成熟，淘汰产品
二年以上	使用寿命短	不确定
300吨/月	90吨/月	广告上75吨/月，无样板案例，实际30吨左右
靠产品及服务为用户节能减排增加经济效益	仅靠卖设备，给用户带来技术风险。环保风险。	产品虚假宣传早，力度大，但技术不成熟，无推广价值，现与多家用户因环保问题、再生液品质问题存在经济纠纷己有多家样板案例，存在技术风险。环保风险。有骗取国家扶植资金的嫌疑。